西红柿栽植方法

种植方法及地膜种植最好在晴天无风的时候进行。气温高，土壤水分蒸发小，容易缓苗。

1、种植方法：种植方法有平植、沟植、垄植。按灌水顺序分为“旱栽”（即先栽苗后灌）和“稳水栽植”（即先栽苗后灌苗）。栽苗时，不要栽得太深或太浅。如果栽得太深，土温低，不利于根系生长，会减慢出苗速度。如果栽得太浅，虽然土温高有利于根系生长，但根系不稳定，幼苗很容易被灌溉冲走或被大风吹倒。一般种植深度以土块与地面齐平或稍深为宜。若因苗床管理不当或定植不及时而导致苗木过长，定植时可将苗木茎端向南呈船底状栽植，使暴露在土表上的茎尖稍向南倾斜，以防止苗木过长。减少幼苗对地面的影响。高度可以防止晒伤和风吹，促进不定根的生长。

2、地膜：近年来，地膜在番茄栽培中得到广泛应用。它具有提高土壤温度、减少土壤水分蒸发、抑制杂草生长、保持土壤疏松等作用，从而加快定植后出苗速度减慢，促进根系生长。生长。育苗的方法是覆盖地膜。在我们的田地里，我们一般都是先铺膜，然后栽苗。具体方法是：先在建好的高粱畦上铺上地膜，畦周围覆土，然后根据株距挖坑栽苗，并用土将苗子盖严。

3、种植密度

露地小林早熟栽培：行距40-50厘米，株距23-26厘米，每亩苗5000株左右。小框中熟栽培，行距50厘米，株距26-33厘米，栽苗4000株左右。大框长期栽培，行距66厘米，株距33厘米，可定植苗3000株左右。

保护地栽培：小架早熟栽培，23穗果打顶，行距50厘米，株距27厘米，每亩苗5000株。中熟栽培在留果34穗的小框内进行，行距50厘米，株距30厘米，每亩出苗4400株。大框长期栽培不打顶（如荷兰无限生长品种），行距80厘米，株距40厘米，定植2000株苗。