温室西瓜栽培，怎样设计株行距？如何进行留蔓、整蔓和吊秧？

大棚栽培西瓜，可以利用设施优势，实行宽窄行、吊苗、围栏栽培。一般宽行距90-100厘米，窄行距40-50厘米，种植密度提高到1800-2400株/亩。

西瓜种植后，为了提高早期叶面积系数，不要急于抹芽，让它随意生长，尽快增加叶面积，促根壮苗。当瓜苗长到60厘米以上时，就可以抹芽去枝了。抹芽时，选择留下四根大藤(包括主藤)继续生长，其他小藤全部被疏掉。

从左边选择两个较大的瓜，用挂黄瓜的方法把瓜吊到空中。挂藤的时候要采取“S”形把藤包裹起来，让藤弯起来，这样可以缓解瓜的生长，充分利用空间。蔓生植物叶片叶腋处的次生次生卷须，除瓜节处的一根留3-4片叶摘心留着外，其余次生次生卷须都要尽早疏掉，防止生长点过多，造成营养竞争，光照条件恶化，影响瓜。

另外两根藤蔓，一根留8-10片叶子摘心，第二根次生卷须抹平。第二次生卷须要及时抹去，让它在行间的地面上延伸。人工授粉的同时要去除生长点及其次生卷须，消除竞争，以利瓜类。

这样可以在西瓜生长前期保留更多的成熟叶片，增加瓜田前期的叶面积系数，充分利用空间。较大的叶面积可以产生更多的有机养分，促进根系的发育，壮苗促瓜，为以后的高产优质奠定基础。

西瓜定下来后，一般来说，随着幼瓜的加速膨大，瓜苗的营养生长会逐渐减缓，直至停止。但在温室栽培中，因为种植密度高，肥水充足，瓜苗还是会长势旺盛。如果任其生长，瓜苗会封闭，光照条件变差，光合产物积累减少，西瓜产量降低，容易诱发病害。

因此，应注意及时控制甜瓜幼苗的生长。一旦瓜苗长到2米左右，要及时摘掉瓜头，去掉枝干。改善光照条件，提高光合效率，抑制甜瓜幼苗营养生长，促进有机营养输入中心及时转向幼瓜。